破片槽编程教程,刨槽机编程教程

1. 旋涂机如何涂膜？
2. 湿法处理样品的溶剂是？

旋涂机如何涂膜？

1开机前准备

　　(1)用丙酮与无尘纸清理之前光阻图布的残余物.

　　(2)a.选择适合尺寸大小的吸盘(1/2",1",2",3",4",5",6",7",8").

　　b.将吸盘装上(将吸盘缺口处对准轴心之插梢位置).

　　c.将样品放在吸盘上(启动前请确定样品放在吸盘正中央的位置).※不可放入破片只能放4吋晶圆,以防光阻倒流入真空吸槽

湿法处理样品的溶剂是？

磷酸刻蚀液由纯磷酸和去离子水组成，工作温度为160摄氏度。主要功能是用来刻蚀氮化硅膜及其下面的氧化膜。其对氮化硅膜的刻蚀速率是55A/Min,对氧化膜的刻蚀速率是1.7-10A/Min。该刻蚀液的反应速率主要取决于反应温度和溶液中水的含量。

其反应机理如下：

Si3N4 6H2O----->3SiO2 4NH3 （需要用H3PO4作催化剂） 晶圆在磷酸刻蚀液反应槽里反应后必须被传送到热的去离子水槽里进行清洗，否则易受到热应力的破坏而造成破片。

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